「好啦，這事不急在一時，明天再弄。」陳舟說著過去幫沈靖關了電腦，督促他趕緊去睡覺。

這是一种放電區內隱的直流電弧等離子體沉積法。

工作，具有專註力的工作，將抵消那股疲憊的困意！

如果被鎖在門外，寫檢討都是輕的。

在沉積速度過快時，膜的表面不平整，就會大大降低膜的緻密度。

最後一個製備方法。

沈靖將信將疑的離開了，但回到房間后他覺得不對，這小子的一會到底是個什麼概念呢？

給自己打了個氣，沈靖便開始繼續了。

還剩兩個，直流電弧等離子噴射CVD法和微波等離子體CVD法。

拿筆點了兩下，隨手便劃了兩個圈。

很好的解決了膜的緻密度不高的問題同時，還可以產生大體積的金剛石薄膜。

陳舟不禁笑了笑，今天起得其實挺早的，而且在高鐵上並沒有補覺，這會這個點，確實有點犯困了。

和DAPCVD法使用的氣源相同，主要是氬氣，反應氣體是甲烷和氫氣。

在高微波功hｅtuｂｏｏｋ.ｃom.ｃoｍ率，高的甲烷與氫氣體積流量比，160Torr氣體壓力下，可以製備出150μm/h的多晶金剛石薄膜。

是四十三所所採用的的方法。

相比之下，一個的速度就是火箭，另一個則是自行車。

看到這，陳舟古怪的笑了笑：「看來，太快了也不好……」

把DAPCVD法的相關文獻看完后，陳舟右手滑動滑鼠，點開了一個新的PDF文件。

可以說是滿足了製備高質量金剛石薄膜的條件。

只是他很奇怪，宿管阿姨不都是和藹可親的嗎？

微波等離子體CVD法，也就是MPCVD法。

他是真的有點困了，如果按照一天的活動時間來算的話，那他已經連續近16個小時沒有休息了。

臨出門時，他突然停下腳步，轉頭問陳舟：「你該不會熬夜看文獻吧？」

製備工藝的話，也並不複雜。

到晚上十點半左右，陳舟把張一凡送出了房間。

「學長，先回去休息吧，明天四十三所ｈttps://ｗww•hetｕｂｏｏk•ｃｏｍ•ｃｏm的實驗也要正式開始了。」

現如今，這種方法已經形成了多種形式。

看完了這篇詳細介紹MPCVD法的文獻后，陳舟不禁想到。

見他說的這麼嚴重，陳舟自然也不敢耽誤他的時間。

而且這種方法製備金剛石薄膜，不禁速度快，而且質量高，還無電磁污染。

張一凡得抓緊時間趕回學校了，據他所說，他們的宿管阿姨簡直不要太凶。

而高壓等離子體就會由耦合器的「針孔」處噴射到水冷的樣品台上，繼而形成金剛石薄膜。

也是因為這種告訴生長的速率，這種方法一度成為熱點方法。

不過不管是按真空室的形成來分的石英管式、石英鍾罩式和帶有微波窗的金屬腔體式，還是按微波與等離子體的耦合方式來分的表面波耦合式、直接耦合式和天線耦合式。

這也是目前用於沉積金剛石薄膜最為廣泛的方法。

放下筆，陳舟滑動滑鼠，繼續看文獻的內容。

或許連自行車都算不上。

陳舟輕和_圖_書聲笑道：「不至於，我再看一會就睡了。」

這種方法最先是通過一種軸向的天線耦合器，將2～5W的矩形微波進行導轉換，在大氣壓下形成等離子體。

但是，由於噴射等離子體的速度場合溫度場不均勻，使其沉積範圍內膜厚不均，會呈梯形分佈。

它們的沉積速率，都是和微波功率有關的。

一回去，就看到沈靖打了個哈欠。

「沒事，我再整理兩篇。」沈靖說完，又打了個哈欠。

直流電弧等離子噴射CVD法，也叫DAPCVD法。

引弧的氣體通常是氬氣，等形成等離子體射流后，通入反應氣體甲烷和氫氣，甲烷和氫氣被離化，並達到水冷沉積台的襯底，在襯底上成核、生長金剛石薄膜。

陳舟在草稿紙上做著記錄，並把自己的想法記在一旁。

幫張一凡喊了輛計程車，看著他上車，陳舟才再次回到房間。

陳舟這邊，等沈靖離開后，便坐回桌子前，繼續看文獻。

搞不好還要被通報批評呢。

主要就是在桿狀陰極和環形陽極www.hetubook.com.com之間施加直流電壓，當氣體通過時引發電弧，加熱氣體，高溫膨脹的氣體從陽極嘴高速噴出，形成等離子體射流。

這是重點。

如果在同等條件下，將壓力提高至310Torr下，可以製備出165μm/h的單晶金剛石薄膜。

而且，就算是930μm/h，那也是遠高於現在四十三所製備金剛石薄膜的40μm/h的。

除此之外，金剛石薄膜的沉積速率還和氣體壓力有關。

和DAPCVD法被報道的時間，僅相隔一年。

而且MPCVD法無內部電極，可以避免電極放電污染和電極腐蝕。

陳舟在草稿紙上寫下這兩個詞彙。

舉個例子，用5kW微波功率的MPCVD法，可以以10μm/h的速率沉積工具級金剛石薄膜，以8μm/h的速率沉積熱沉級金剛石薄膜，以3μm/h的速率沉積光學級金剛石薄膜。

要是晚歸，不都是趕緊讓你進來，生怕耽誤你休息的嗎？

而用10kW微波功率的時候，他的沉積速率可以達到25μm/h。和-圖-書

但是，就像四十三所實驗室的裝置一樣，MPCVD法的沉積速率是硬傷。

也就是說，通過增大微波功率，可以提高金剛石薄膜的沉積速率。

更不要說930m/h了。

這種方法的優點就是，有極快的沉積速度。

沈靖看了陳舟一眼，把東西收拾好，朝自己房間走去。

想了一會，沈靖把電腦重新打開了。

「氣體壓力……」

MPCVD法之所以會成為最廣泛的方法，是因為這種方法比DAPCVD法製備的金剛石薄膜質量更好。

「微波功率……」

但是整體來說，這種方法還是很有研究潛力的。

也是陳舟查這麼文獻的目的。

此外，這種方法還能在曲面或者複雜表面上進行金剛石薄膜的沉積。

在上世紀90年代的時候，就有實驗室利用陰陽極呈直角的反應器實現了930m/h的高速生長。

是極快，不是一般的快！

「如果有DAPCVD法一半的速度，再加上MPCVD法的製備質量，那這事不就成了嗎？」

這可是930m/h，不是930μm/h！