所以新芯的技術進步，對直接競爭對手也是有幫助的，更別提晶元其他領域的廠商了。

結果就是ASML在該會議上痛批這幫晶元製造廠商的技術代表們沒有遠見，觀點的參考價值極其有限。

Newman再厲害他也不可能改變物理世界的規則，如果是互聯網世界，我相信Newman也許能做到。」

至於新芯在光刻機市場上徹底擊敗霓虹，小松正志從來沒有想過這種可能性，在他看來這是不可能的事情。

我們拿出類似的浸沒式光刻機最快也要一年時間。

因此阿美利肯和霓虹都在拚命往EUV里投入，失利只是暫時的，誰先攻克EUV，這場戰爭才算結束。

會上，ASML表示他們已經藉助浸潤法成功攻克了那道門檻，也就是卡住晶元工藝繼續發展的門檻，希望大家支持浸潤法光刻機作為未來唯一的技術路線，說白了就是只支持ASML。

因為新芯攻克了40nm工藝製程，意味著EUVA會獲得更多的資源支持，小松株式會社作為其中唯一的光源製造商，自然也會獲得更多的資源扶持。

林本堅的演講結束后，台下響起了雷鳴般的掌聲，即便是直接競爭對手ASML、尼康、佳能的技術代表們，都沒有吝嗇自己的掌聲。

ASML的技術專家們很懊悔，曾經他們有機會走浸潤式光刻機路線，但是這個機會被他們內部的決策給親自否了，業內沒有一家走這個技術路線，憑什麼他們能走通？

「不，不是因為林，新芯能改造我們的物鏡光路，是因為有蔡司的全力支持。」傑夫·懷特說，他是尼康新上任的CEO，不知道什麼時候坐到了佐藤和小松正志的旁邊。

小松正志和他的小松株式會社也在這過程中消失在行業內，再也沒有了任何消息。

這需要耗費大量的人力物力。」小松正志說。

「拍好了。

「不可能，絕對不可能，我們連原型機都已經研發出來了，新芯沒有參与EUV LLC的前期論證和_圖_書，華國國家層面壓根沒有投入到這一塊的研發中去過。

新芯和蔡司配合研發浸潤式光刻機的消息傳到ASML的耳中時，他們早就確定技術研發方向了。

在光刻機失利后，佐藤博人同樣經歷了很長一段時間的失落和沉寂，和小松正志比起來，他最後還是走出來了，甚至換了個研究方向重新活躍在學術界。

遠在東京的尼康不會知道Newman有多神奇，只有身在矽谷的傑夫·懷特對這一點最有感觸，自從Newman迅速崛起后，他成為了傑夫·懷特日常生活中聽到最多的名人。

現在再去走浸潤式，我怎麼感覺死的更快呢？」

「同時因為業內大量的晶元製造廠商們，他們會在一個大的矽片上生產大量不同的晶元，浸潤式光刻法可以避免高掩模成本……」

傑夫·懷特很無奈，當年尼康做出把技術賣給新芯的時候他還不是尼康的CEO，後來復盤的時候他想過，如果當時他是新芯的CEO是一定不會把技術賣給新芯的。

浸潤式光刻機才是未來。

阿美利肯則在能源部的牽頭下成立了EUV LLC，由阿美利肯三大頂尖國家實驗室：勞倫斯利弗莫爾實驗室、勞倫斯伯克利實驗室和桑迪亞國家實驗室去做技術論證。

「大概率是用的浸潤法，也就是在鏡頭和矽片之間加液體，他們光刻機條線的負責人是林本堅博士，他一直堅持浸潤法是半導體工藝突破的關鍵。

但是還是很肉痛，先進位程的市場失去后，這些企業要靠政府輸血養活，這可是一大筆錢。

林本堅在台上通過一些圖片和實驗結果來展示浸潤式光刻機的優越性，講的非常枯燥乏味，大量的技術內容摻雜著寥寥數筆浸潤式光刻機的技術優勢。

最大的困難就是物鏡光路的改造，尼康的技術最後一塊物鏡是曲面的，曲面鏡片和浸潤式存在天然的不兼容。

台積電被它壓制的極其難受，ARM的移動晶元架構成為主流新芯功不可沒，德州https://www.hetubook.com.com儀器、三星、英特爾這些老牌巨頭紛紛下注移動晶元同樣是因為新芯。

這是央媽的國際新聞團隊，新芯實現光刻機領域的技術突破是華國當下難得的技術突破，完全值得大書特書。

因此央媽派了一整個團隊，想拍成一個紀錄片，今天晚上的新聞節目只是放一小段實時新聞。

東京半導體設備展有很多年歷史，今年因為新芯宣布旗下的光刻機業務條線突破了40nm工藝製程，導致這次的東京半導體設備展格外引人注目。

這是非常合理的要求，站在當時那個視角來看，沒人能保證浸潤式絕對沒有問題，工藝製程的發展能夠一馬平川，毫無阻礙。

小松正志和佐藤博人都連忙和傑夫·懷特打招呼。

EUV也就是極紫外光光刻機，極紫外光的波長只有13.5nm，此時ASML的實驗室已經有世界上第一台EUV的原型機了。

「照片和視頻拍的怎麼樣？拍好之後我們得趕快去後台找林博士採訪然後回酒店把片子剪出來傳回去。

我們繼續沿著尼康和佳能的技術優勢路線投入，那麼我們永遠都不會有超過佳能和尼康的機會。

因此新芯宣布攻克40nm製程后，EUVA的成員們並沒有太大的危機感，因為他們一旦攻克了極紫外光，那麼從65nm製程一直到5nm都將暢通無阻。

剛剛我回後台拿設備準備來找林博士採訪的時候，霓虹的媒體還用漢語問我能不能幫他做介紹，找林博士採訪。

推出新設備之後，需要用1到3年的時間由廠商通力配合適應，新芯比你早量產就比你多了時間去改善問題和提高良率，這會讓我們更加難以超越，一步落後，步步落後。

「我也好奇，因為新芯最早是買的我們的光刻機技術，他們如果要採用浸潤法的話，需要完全重新構建整個物鏡光路。

新芯順利靠著浸潤法找到了150nm波長以下的光，那麼尼康是不是可以先研發出157nm的乾和*圖*書式光刻機，然後再用157nm波長的光去做浸潤法，把波長進一步縮短？

為什麼這麼說，因為在ASML靠著浸潤法率先攻克40nm的工藝製程並獲得英特爾的生產驗證后，他們召開了光刻未來技術研討會，會上邀請了10家主要的晶元製造廠商，也就是他們的主要客戶。

其中新芯自身從尼康、佳能挖走大量研發人員是原因之一，他們獲得了蔡司的全力配合是更重要的原因。

只是不知道他們是如何繞過浸潤法的困難。」佐藤博人說，他是EUVA在御殿場市的研發團隊的負責人。

對於一套新的光學通路來說，沒有蔡司的配合，新芯無論如何也沒有辦法在短短兩年時間做到重構整個物鏡光路。」

新芯這個名字在半導體行業內並不陌生，甚至頗有種大名鼎鼎的味道在內，因為這家企業和它的創始人周新一樣，迅速崛起后在業內佔據了重要的地位。

我的技術你放心，絕對完美，把所有關鍵要素都拍到了。

「拍到了就好，少說兩句，小霓虹會中文的不少。」

「沒有辦法，我們只能把這幾年的市場拱手相讓，讓給新芯，等到EUV的時候再翻盤。

小松正志是霓虹EUVA的執行董事，同時也是小松株式會社的會長，小松株式會社是光源製造商。

這條新聞可是要在今天晚上七點檔的新聞節目里播出呢。」

「我們歡迎大家使用新芯的浸潤式光刻機，有採購需求的公司可以找新芯聯繫。」

最後又不得不鼓掌的時候，看得我想笑。」

不過後世ASML能夠藉助技術優勢幾乎在短短三年時間內徹底實現逆轉，打的尼康和佳能永世不得翻身，這完全不是市場化行為，而是ASML背後的阿美利肯資本主導下的行為。

佐藤博人說：「我每次在IEEE的光學大會上和林博士聊，他對光刻機領域如何利用光源非常精通。

在看到新芯已經突破40nm，ASML的技術專家們把希望放在了EUV上，他們認為EUm.hetubook.com.comV將讓這場競爭徹底失去懸念。

新芯的領先只是階段性領先。

ASML組織了這次技術研討會，研討會後卻完全沒有用會議的討論結果，在背後資本主導下，尼康和佳能的157nm乾式光刻機失去了整個西方資本主導下晶元代工的市場。

「新芯是如何做到的？」在東京半導體展的開幕式上，小松正志低聲問他旁邊的佐藤博人。

「我就說浸潤式可行，我們不應該在乾式光刻機上再投入資金了。

今天找他的人肯定很多，我們不能耽誤人家時間。」

之前去出外勤哪能遇到這種事。」

「話說還是這種場合有意思，老是去國外參展，華國企業又不發言，就坐在下面聽人家說，然後來接受我們採訪就干站著說兩句，什麼我們要實現技術突破，我們要創新這類的套話。

這含金量可比漢芯高多了，漢芯只是晶元設計。

而ASML的193nm光刻機最後一片鏡片是平的，ASML的物鏡系統可以無縫對接浸沒式系統。

甚至站在EUVA，也就是協會的立場和小松株式會社的立場來說，小松正志有點巴不得新芯是真的突破了，也就是說那種可以用在大規模生產上有良品率保障的突破，而別是實驗室突破。

想必在他主導下，加上新芯的人才儲備和資源投入，重構整個物鏡光路是完全可行的技術路線。」

三人的閑聊在林本堅上台後戛然而止，大家都想聽聽新芯的技術路線。

「現在的問題是新芯已經率先在浸潤式光刻機上實現了突破，一是他們實現了突破，一步慢，步步慢。

技術論證完業界來實現。

「唉，我們真的還有錢燒這麼多年嗎？

林博士在說到他們已經完成了技術驗證的時候，霓虹人的臉都綠了。

簡單的寒暄后，傑夫·懷特說：「雖然不想承認，但是新芯在光刻機領域的研發速度遠超我們的預計。

換句話說，如果在EUV光刻機上，新芯又比我們先完成研發怎麼辦？」

而新芯有這樣的自信，所以他們短短數https://m.hetubook.com.com年時間，就順利實現了超越。」

這可不是一個小工作。

「……我們在晶圓光刻膠上方加了一層，利用這層介質把光源的波長縮短到了150nm以內。因此在不改變光刻機波長情況下，變相擴大了NA，使得193nm波長的能等效出150nm以內的波長！」

這是唯一的辦法了。」

我還是第一次從霓虹人臉上看出這麼多表情。

作為光源製造商，他很清楚，尼康的技術關鍵，要想採用浸潤式有太多困難了。

因為新芯的地位和行業口碑，讓大家相信新芯確實突破了40nm工藝製程，尤其是友商們，他們更關注另外一件事。

尼康和佳能這次連殘羹冷炙都吃不到了。

一旦新芯把關鍵技術註冊了專利，一年時間都不夠，三到五年都是完全有可能的。

在場10家晶元製造廠商里有6家技術代表你們的浸潤法光刻機沒問題，但是我們也希望讓157nm乾式光刻機繼續發展作為備份的技術路線，因為這樣一旦浸潤式光刻機技術路線遇到阻礙，我們還有第二個選項。

即便如此，台下來自半導體不同環節的企業代表們沒有一個走神，大家都在全神貫注的聽著新芯的技術路線。

此時意氣風髮指點新芯光刻機技術的他們，不會知道這個未來對霓虹的光刻機產業只會更加殘酷。

在這個經濟全球化的年代，晶元應該是經濟全球化最深的行業，任何一點技術進步，都將使整個行業受益。

那種出外勤是真沒意思，這種讓我自費跑一趟我都願意。

在霓虹產經社的主導下，尼康、佳能、小松株式會社、東芝和三菱等等都是EUVA的成員，EUVA的全稱是極紫外光光刻開發協會，極紫外光就是13.5nm波長的光。

準確來說不是他們這麼認為，是業內所有廠商都這麼認為，誰先攻克EUV技術，誰將獲得光刻機領域的最終勝利，霓虹的巨頭們在霓虹產經省的主導下成立了EUVA的研發。

「好了，別貧了，把鏡頭調好，我們就準備去找林博士了。