最普遍的是157nm的F2激光，尼康、佳能、ASML都走的是這一技術路線。

陳曉夏下一個問題有些敏感：「我們都知道因為瓦森納協定的緣故，華國的半導體企業一直都無法實現最先進的半導體製程。

說完該男子又嘿嘿一笑，神情中露出一絲不可言狀的意味：「我前兩天不是去的申海嗎？

他們那畢業的研究生和博士不是因為新芯，出去待遇翻了三倍都不止么？

尤其在央媽的紀錄片播出后，民間一堆光刻機愛好者冒出來。

徐至展是院士，此時擔任申海光學精密機械研究所的所長，他雖然不是從事光刻機領域研究，但是激光物理裝置研究和光刻機多少沾點邊。

林本堅點頭：「沒錯。」

因此有新芯這一案例在前，華國非但沒有中止十五計劃中的光刻機項目，反而加大了對這一項目的支持力度，直接放在燕京的華國科學院光電所負責這一項目的研發，由申海微電子負責配合。

……

要麼就是沒啥本事，靠關係混進來的，不恨新芯才怪呢，新總不把漢芯的皮扒下來，他們也不會接不到十五的攻堅項目了。」

但是這一技術路線同樣有一些難點要克服，比如說157nm波長的光會被193nm波長光源光刻機的鏡片吸收，他們要重新研製鏡片，光刻膠也要重新研發，他們要克服的困難比我們更多。

我們順利在今年年中的時候完成了驗證，現在新芯的浸潤式光刻機已經開始進入到我們的生產環節中去了。」

半導體行業依然會按照摩爾定律繼續發展，一直到遇到新的瓶頸。」林本堅說得雲淡風輕，心裏卻很得意。

尼康研發的157nm波長光源的乾式光刻機因為不是主流，所以沒有算在裡面。

晶元製造還涉及到原材料、清洗設備、薄膜沉積設備、熱處理設備等等。

看到台下的敵人、朋友、對手、合作夥伴，大家雖然有著不同的立場，但是都在為半導體技術又一次進步hｔtps://wｗw.hetｕbｏｏｋ•com•cｏm而鼓掌而高興，這技術進步是自己帶來的，林本堅感到由衷的開心。

而這次團隊里的小年輕來了之後，一陣陣驚呼，覺得東京建設的比華國的大城市要好得多，隨便一個會展中心都修的如此恢弘雄偉，建築面積足足有二十多萬平方。

不管互聯網上怎麼調侃國內科研環境不行，科研氛圍不行，霍金來了也得站起來敬兩杯，這種調侃背後折射的更是大家對科研的熱情和對科研人才的尊重。

林本堅對接受採訪不意外，央媽的團隊是和他們搭乘同一個航班來的東京，在來之前央媽那邊就已經和新芯溝通好了。

一般最少比國外的最先進位程落後一代，上世紀九十年代初的時候甚至落後2.5代。

其中X光、電子束投射、離子投射都太遙遠了，屬於是有這個想法，理論來說可行，材料學的現狀決定了不現實，這些只是前置研究。

陳曉夏已經不懂了，不知道林本堅在說什麼，他只能微笑點頭，他想問的已經問的差不多了，隨便問了幾個問題后結束了採訪。

大家現在沒有世紀之交的時候那麼缺民族認同感，但是科技的突破依然能夠激起華國人的自豪感。

林本堅很自豪，記者則敏銳捕捉到了新聞熱點，和周新相關的都是新聞熱點，陳曉夏連忙問：「林博士，您剛剛提到了Newman，是我所理解的周新嗎？」

在新芯進入光刻機領域前，華國最先進的光刻機技術要屬燕京那邊的華國科學院光電所研發的光刻機。

因為要拍成紀錄片，所以在來之前大家做了大量基礎資料的查閱和相關專家的採訪，他們很清楚新芯的技術突破意味著什麼。

該光刻機將晶元製程從65nm再次向前推進了一大步，也是我國企業首次在半導體領域攻克關鍵技術，引領世界半導體產業發展。」

之前在IBM的時候，他堅持深紫外光或者浸潤法來突破193nm波https://www.hetubook.com.com長的限制，而鮑里斯堅持X光，林本堅後來被IBM「內部退休」和鮑里斯不無關係。

我們採取的是和其他公司都截然不同的方向。

「林博士，第一個問題，您覺得新芯的技術突破意味著什麼？對於光刻機領域，對於半導體領域來說？」

新芯這次實現了光源波長的突破，從40nm到20nm都將是一馬平川，再無困難點阻礙。

193nm波長光源的光刻機又叫ArF，如果單純看光源發展歷史的話，光刻機一共經歷了五代：436nm的g－line、365nm的i－line、248nm的KrF、193nm的ArF和13.5nm的EUV。

華國在做這個項目立項的時候，那時候新芯已經從尼康手裡買了130nm光刻機技術，並且搞的還不錯，因此華國方面認為，新芯能藉助自己的生產線在130nm光刻機站穩腳跟，華國方面實現技術突破后同樣可以藉助華虹、華晶這幫國企站穩腳跟。

陳曉夏不太能體會林本堅的心情，他知道這很重要，不重要央媽也不會派一整個團隊跑過來，他不知道具體有多重要，聽完林本堅的回答后，陳曉夏有了更加直觀的感受。

我在和他介紹了我的想法，以及為什麼我認為浸潤法這一技術路線有戲之後，他當時立刻說好，我同意你的想法，於是我們進一步討論了浸潤法達成了一致，後面新芯開始把所有資源投入到浸潤法的研發中。

科研人才不應該遵從華國的普世運行規則，世俗歸世俗，科學歸科學，華國宗教的最大公約數一定是科學唯物主義。

而在華國，民間都在討論光刻機，堪比當年陳景潤研究出1＋1=3之後民間一堆人開始研究哥德巴赫猜想。

「好的，陳記者，你問吧。」林本堅很淡定，他剛剛做完介紹，還沒有從前面介紹中的興奮狀態中脫離出來，對於和陳曉夏的溝通，他屬於機械式反應和-圖-書。

林本堅笑道：「他是老闆，我們走的技術路線和其他公司都不一樣，他得拍板干不幹。

新芯內部有討論過，能不能藉助光刻機的技術突破，讓瓦森納協定解除對半導體設備的出口管制。

20年的難題被解決了，這確實是值得大書特書的事情，還是由我們華國的企業實現了這一突破。

陳曉夏繼續問：「您的意思是周新博士在其中也起到了作用對嗎？」

「意味著困擾業內長達二十年的光源問題得以解決，從90年代開始，光源波長就從365nm降低到了193nm，但是業界一直無法實現突破……」

光刻機的突破能夠提高華國半導體生產企業的上限，但是是否能做到和國外同等的晶元製程我不確定。

光電所出去的研究生和博士待遇是翻了三倍，問題是對光電所的科研人員來說，他們待遇又沒有翻翻，還失去了重大攻堅項目，身邊有能力的同事都被新芯挖走了，剩下的要麼是有職位的領導，甚至中層走的都不少。

「呵呵，我聽我朋友說，十五攻堅行動里的光刻機項目本來是要分給申海光電所，甚至華電科都打算把他們的45所之前搞光刻機的團隊全部遷到申海，和光電所合併，然後一起承擔這個項目。

「林博士，這次的技術突破你們是如何做到的？如何超越尼康、佳能以及荷蘭的ASML這些公司？

「林博士，您好，我是央視記者陳曉夏，我們有幾個問題想採訪一下您，您可以暢所欲言。」陳曉夏是國際頻道的記者，常年跑外勤，因此來到有明會展中心他倒是沒有什麼感覺，他連南極都跑過，這裏只能說小意思。

我想問問新芯實現了光刻機技術的突破后，是否意味著我們不會被瓦森納協定所限制，華國的企業能夠藉助新芯的光刻機設備實現比國外還要更先進的晶元製程了呢？」

他們在光刻機領域都有著比較悠久的歷史，新芯是如何實現的趕超呢？」

作為央媽的記者，他在這方面有足hetubook.com.com夠的敏銳性，別說新芯研發成功的是40nm工藝製程，就算新芯研發了10nm工藝製程的光刻機，華國方面主導的項目攻堅還是會繼續。

我們採用的浸潤法從方向上來說，可以是最簡單的解決方案。我在和Newman討論之後，確定了技術方向，然後朝著這一技術方向前進，沒多久就實現了突破。」

一是因為項目立項必須要把錢用完把項目給結了，除非非常特殊，不然不會中止，二是因為新芯的光刻機依然要依靠國外供應商，而且技術也不會免費授權給華國企業，華國有必要研發自己的光刻機技術。

「光刻機突破確實有含金量，我在來之前和老張一起跑申海採訪新芯的時候，順便去了申海華科院光電所的徐至展院士。

我有朋友在申海的光電所，他和我說，他們私下本來對新芯怨聲載道，這次新芯利用浸潤法實現了光刻機製程的反超，一下子他們就沒話說了。」

該簡報后是林本堅接受採訪時說的話：

另外一位央視的記者倒是沒有問，為什麼新芯已經實現了40nm工藝製程的光刻機突破，華國的光刻機攻堅項目還會不會繼續。

「原來如此，漢芯事件在這上面還有後續，漢芯之後那兩年，整個申海地區高校的分數線都往下降了個十分左右。」

因為漢芯事件，導致上面對申海的科研環境極其不信任，十五計劃里整個申海高校和科研機構，只有復旦勉強撈到了一個項目，其他高校和科研機構啥都沒撈到。

他在現場看到了之前IBM的老熟人，也是他的對手，IBM光源團隊的負責人鮑里斯·利普金。

「意味著困擾業內長達二十年的光源問題得以解決，從90年代開始，光源波長就從365nm降低到了193nm，但是業界一直無法實現突破。

「徐院士說新芯把光刻技術推向了新的高度，是華國企業在這一領域的新突破。

他們還沒有開始行動，不確定能搞定。

該新聞在央媽播出后，一m.hetubook.com.com時間華國各大互聯網論壇和傳統紙質媒體上充斥著對新芯的討論和對光刻機的討論。

林本堅說：「因為我們選擇了正確的方向。

「啊？申海的光電所對新芯怨聲載道？

這需要看後續實際生產過程中，華國國產設備在其中的表現。」

在上世紀90年代末的時候，當時業內就提出了各種各樣突破193nm波長的方案，其中包括157nm F2激光，電子束投射，離子投射、深紫外光和X光等等。

林本堅想了想然後說：「光刻機只是晶元製造環節中比較重要的一部分，但是不是唯一的環節。

意味著華國和國外的光刻機領域在八十年代被拉開的差距，在這一刻成功實現了逆轉。

「近日，在霓虹東京舉辦的半導體設備展上，來自我國的半導體企業新芯光刻機受邀參加開幕式，並在開幕式上展示了最新研發的40nm工藝製程光刻機。

他們有什麼好怨恨新芯的？」

華國外，新芯光刻機的突破影響主要在業界，半導體相關的企業都在討論這件事可能帶來的影響和半導體行業未來的發展。

他們研發的是i線光刻機，光源波長在365nm，工藝精度最高也就0.35微米，而新芯的製程按照他們的說法已經進入了40nm，中間相差了至少兩代技術差距。」

當天晚上七點的新聞節目就播出了新芯在光刻機領域實現技術突破的新聞：

周新有一定把握，但是得抓住時間窗口，08年以後這件事就不好搞了，07年是唯一的時間窗口。

因為華國自近代以來，在世界各國競爭中吃過的虧歸根結底都來源於技術的落後，所以華國人對技術進步有著執念和極致的追求。

問了他對新芯的看法，無論是當著我們面，還是後來我私下找他學生採訪，他們對新芯的光刻機技術都讚不絕口。」

如果沒有新芯的話，此時華國最先進的光刻機應該是華國科學院光電所研發的URE－2025型i－line光刻機，比主流光刻機足足落後代。